（單管程序氧化爐）

時間：2014-10-22作者：青島福潤德微電子設備有限公司瀏覽：130

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• 擴散爐

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• 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD)

  ? 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD) PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的**設備。淀積溫度范圍寬( 100～600oC可調)，特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。 產品特點： 1、膜質量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機（易漏大氣而

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