磁控濺射鍍膜設備工作原理

時間：2022-05-21

作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司

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詞條說明
卷繞真空鍍膜機的簡介與應用
? ? ??卷繞式真空鍍膜設備,包括設置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設置有與驅動電機輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動的送料輥輪對,送料輥輪對與鍍膜輥之間設置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對與張力釋放輥之間保持松弛狀態的輥輪；收卷裝置包括一主動的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設置有送料輥輪對,該送料輥輪對與收卷輥之
磁控濺射鍍膜設備工作原理
? ? ? ? ?磁控濺射是一個運行模式的二級濺射。它與二，四級濺射的主要不同點；一是，在濺射的陰極靶后面設置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產生水平分量的磁場或垂直分量的磁場，由氣體放電產生的電子被束縛在靶面附近的等離子區內的特定軌道內運轉；受電場力和磁場力的復合作用，沿一定的跑道作旋轉輪轉圈。? ? ? ?
多弧離子真空鍍膜技術特點
離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者**結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點是我們可以通過產生由高度電離的蒸發物質文化組成的等離子體，其中離子之間
影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？
一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則該化學反應無法繼續進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其