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高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布:通常,目標材料具有多晶結構,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材,細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而產生雜質顆粒。 此外,由于其密度低,在
清遠高純鉻靶批發清遠是一座充滿活力和的城市,也是許多高科技蓬勃發展的地方。在這樣一個環境下,我們公司作為一家的高屬材料生產企業,致力于為客戶提供的高純鉻靶批發服務。高純鉻靶作為PVD技術中的重要材料,廣泛應用于半導體制造、光學鍍膜、磁盤制造等領域。它以鉻元素為主要成分,具有高純度、均勻的化學成分、良好的加工性能以及穩定性。在實際的生產過程中,高純鉻靶扮演著至關重要的角色,其制備工藝和性能直接影響著
鉑靶材:電子顯微鏡背后的"隱形功臣"在電子顯微鏡的核心部件中,有一種材料發揮著不可替代的作用,它就是鉑靶材。這種看似普通的金屬材料,卻是現代顯微技術能夠實現高分辨率成像的關鍵所在。鉑靶材之所以成為電子顯微鏡的理想選擇,首先源于其優異的物理特性。鉑金屬具有極高的熔點和良好的熱穩定性,在電子束持續轟擊下仍能保持結構穩定。其高密度特性使得電子散射效果顯著,有利于產生高質量的X射線信號。更難得的是,鉑具
中山貴金屬靶材廠是一家生產貴金屬靶材的科技型民營企業,擁有多名中**技術人員和化應用實驗室,致力于研發和生產高質量的貴金屬靶材產品。我們的產品主要包括蒸發材料、濺射靶材等系列,廣泛應用于電子、太陽能等領域。貴金屬靶材是一種以貴金屬及其合金為原料制造而成的濺射靶材,具有**的物理和化學特性,被廣泛應用于各種高科技領域。在集成電路制造中,貴金屬靶材扮演著重要的角色,如金、銀、鉑等靶材被廣泛用于半導體行
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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